薄膜台阶仪品牌

NS系列薄膜台阶仪品牌应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。

一、产品功能

1、参数测量功能

（1）台阶高度：能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。

（2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。

（3）应力测量：可测量多种材料的表面应力。

2、测量模式与分析功能

（1）单区域测量模式：完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度，即可开始测量。

（2）多区域测量模式：完成Focus后，根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式，一键即可完成所有扫描路径的自动测量。

（3）3D测量模式：完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置，一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。

（4）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。

3、双导航光学影像功能

在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机，在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径，在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。

4、快速换针功能

采用了磁吸式测针，当需要执行换针操作时，可现场快速更换扫描测针，并根据软件中的标定模块进行快速标定，确保换针后的精度和重复性，减少维护烦恼。

二、应用场景

1、半导体制造：沉积/蚀刻薄膜厚度测量、CMP工艺平整度检测、抗蚀剂台阶高度分析，助力芯片良率提升。

2、光伏&显示面板：太阳能涂层膜厚检测、AMOLED屏微结构分析、触控面板铜迹线测量，适配光伏组件与显示器件生产需求。

3、MEMS&微纳材料：微型传感器形貌表征、柔性电子薄膜厚度检测，支撑微纳器件研发与量产质控。

4、科研与高校：材料表面应力分析、微加工工艺研发数据支撑，加速科研项目落地。

如需针对您的行业场景定制测量方案、获取详细参数或申请样品测试，欢迎随时联系中图仪器，我们将为您提供专业技术支持与咨询服务！

（注：产品参数与功能可能随技术升级更新，具体以实际沟通为准）

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