0.1nm分辨率白光干涉仪

SuperView W1系列0.1nm分辨率白光干涉仪，以“超精密、全适配、高效率、低运维"的核心优势，应用覆盖半导体、3C电子等多行业场景，数据驱动检测，赋能精密制造升级。以0.1nm核心分辨率为突破，结合白光干涉技术与智能化功能，为B端用户提供“高精度、全适配、高效率"的表面形貌测量解决方案。

一、解决行业四大核心测量痛点

二、行业应用

1.半导体制造及封装：精准测量硅晶片研磨减薄后的表面粗糙度、光刻槽道微观轮廓，助力头部企业工艺良率提升8%，检测数据通过国际标准认证，可直接对接供应链质检要求。

2.3C电子：适配玻璃屏粗糙度、金属壳模具瑕疵、油墨屏高度差测量，0.1nm分辨率可捕捉微米级划痕与凹陷，批量检测无需重复调试，满足规模化生产质检需求。

3.光学加工：量化光学元件表面粗糙度、纳米台阶高度，数据精高，帮助企业突破光学产品技术瓶颈，成功打入海外市场。

4.汽车零部件与MEMS器件：检测精密齿轮磨损情况、MEMS器件孔隙间隙，在复杂车间环境中保持数据稳定，某车企借此将零部件质检合格率提升12%。

三、产品优势

1.超精密数据，奠定工艺优化基石

0.1nm分辨率搭配0.1nm形貌重复性（STR）、0.005nm粗糙度RMS重复性，连续10次测量Sa=0.2nm硅晶片，数据偏差＜0.001nm，符合ISO 25178、ISO 10610等300余种国内外标准。无论是纳米级台阶高度、微观几何轮廓，还是超光滑表面粗糙度，均能精准量化，为工艺调整提供可信的量化依据，某半导体企业应用后，因测量误差导致的返工率降低18%。

2.高速扫描，效率精度双在线

突破“高分辨率必低速度"的行业瓶颈，W1-Ultra型号在0.1nm分辨率下，扫描速度高达8μm/s，是传统同类设备的4倍以上；支持单/多区域一键测量、阵列式批量检测，搭配编程预设流程，实现“无人值守"自动化操作。某3C电子代工厂检测手机玻璃屏微观形貌时，日均检测量从200片提升至550片，检测效率提升175%。

3.全场景适配+抗干扰，复杂环境稳输出

单扫描模式全覆盖超光滑到粗糙、镜面到全透明/黑色材质，无需更换模块或耗材；配备气浮式隔振底座与0.1nm分辨率环境噪声评价功能，可定量检测外界干扰并有效隔离，即便在车间振动环境中，仍能保持数据稳定。某光学加工企业反馈，设备在车间常态环境下运行，测量数据波动＜0.002nm，满足元件生产要求。

4.智能化操作+安全防护，降低运维成本

SuperView W1系列0.1nm分辨率白光干涉仪集成式操纵杆可控制所有位置轴、速度及光源亮度，新手培训1天即可独立操作；双重镜头防撞保护（软件ZSTOP+弹簧回缩结构）+光源无人值守自动熄灯设计，设备年损耗率降至2%以下，光源使用寿命延长3年，维护成本较传统设备降低60%。

注：产品参数与配置以实际交付为准，中图仪器保留根据技术升级调整相关内容的权利，恕不另行通知。