RMS重复性0.005nm白光干涉仪

中图仪器RMS重复性0.005nm白光干涉仪设备分辨率0.1μm，重复性0.1%，应用领域广泛，操作简便，广泛应用于如纳米材料、航空航天、半导体等各类精密工件表面质量要求高的领域中，专用于精密零部件之重点部位表面粗糙度、微小形貌轮廓及尺寸的非接触式快速测量。

从硅晶片到光纤端面，如何解决微观粗糙度测量难题？

理论参数再好，不如实际应用场景有说服力。以下是白光干涉仪在不同高精尖领域的实际应用表现：

案例一：半导体晶圆检测

1.挑战：硅晶片表面极易受损，且粗糙度要求高（纳米级）。

2.方案：采用白光干涉仪的非接触模式，避免了探针划伤 。

3.效果：实现了0.1nm级别的超光滑表面测量，RMS重复性优于0.008nm（Mini型设备WM100实测数据） 。

案例二：光纤端面分析

1.挑战：光纤端面极小，全扫描浪费时间且效率低。

2.方案：利用“区域聚焦法"，针对端面中心250×250μm区域进行框选测量 。

3.效果：大幅减少了无效扫描范围，缩短了单次测量时间，提升了检测效率 。

案例三：大尺寸样品拼接

1.挑战：样品尺寸超过单视野范围，传统拼接易出现接缝误差。

2.方案：使用大尺寸自动拼接模式（支持方形、螺旋形等） 。

3.效果：实现了数千张干涉条纹图像的无缝融合，完整还原了大尺寸样品的表面形貌 。

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