本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。真空腔体整体采用下置靶设计，溅射效果好，杂质污染少，能zui大限度的保护样品。
桌面型靶下置型磁控镀膜技术参数：
CY-MSP180S-DC-GU | ||||
样品台 | 尺寸 | φ100mm | 加热 | zui高500℃ |
转速 | 0-20可调 | 安装方式 | 上置于腔体上盖，样品安装为夹持式 | |
磁控溅射靶 | 数量 | 2” x1 下置安装与腔体下法兰 | ||
真空腔体 | 腔体尺寸 | φ180mm X 215mm | 观察窗口 | 前置式 φ60mm |
腔体材料 | SS304 | 开启方式 | 上顶开式 | |
真空系统 | 机械泵 | 旋片泵 | 抽气接口 | KF16 |
分子泵 | 涡轮分子泵 | 抽气接口 | KF40 | |
真空测量 | 电阻规+电离规 | 排气接口 | KF16 | |
极限真空 | 1.0E-4Pa | 供电电源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽气速率 | 机械泵1.1L/s 分子泵60L/s | |||
电源配置 | 数量 | 直流电源 x1 | zui大输出功率 | 直流电源300W |
其他 | 供电电压 | AC220V,50Hz | 整机尺寸 | 550mm X 350mm X400mm |
整机功率 | 2kW | |||
