单靶磁控镀膜仪
单靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的实验室专用镀膜仪，设备可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。
设备经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能全面。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。
技术参数：
项目 | 明细 | |
型号 | CY-MSP500S-RF | |
供电电压 | AC220V，50Hz | |
整机功率 | 6KW | |
极限真空度 | 5x10-4Pa | |
载样台参数 | 尺寸 | φ150mm |
加热温度 | zui高500℃ | |
控温精度 | ±1℃ | |
转速 | 1-20rpm可调 | |
磁控溅射头参数 | 数量 | 1个2”磁控溅射头 |
冷却方式 | 水冷，所需流速10L/min | |
水冷机规格 | 10L/min流速的循环水冷机 | |
真空腔体 | 腔体尺寸 | φ300mm X 340mm H |
腔体材料 | 不锈钢 | |
观察窗口 | φ100mm | |
开启方式 | 上顶开式，便于更换靶材 | |
气体流量控制器 | 1路200sccm Ar； | |
真空泵 | 配有一套分子泵系统，抽速600L/S | |
膜厚仪 | 石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å | |
溅射电源 | 射频电源，500W-1000W，适用于非金属镀膜
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操作方式 | 一体机电脑操作 | |
整机尺寸 | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
整机重量 | 350kg | |
