芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机P-1000 Pro ALD
技术参数：
衬底尺寸和类型
。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）
。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）
。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度： 50 - 500 °C
基片传送选件：
。气动升降（手动装载，带叉车forklift cart）
。全自动转载，用工业机器人实现
前驱体：
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。8根独立源管线，最多加载12个前驱体源
重量： 2000 kg
尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准： 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
售后服务承诺
免费上门安装：是
保修期：1年
是否可延长保修期：否
保内维修承诺：经确认质量问题，免费更换。
报修承诺：24小时内到达现场并开始维修
免费仪器保养：6个月一次。
免费培训：免费安装及技术培训
现场技术咨询：无
