英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积（ALD）设备
紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统
OpAL提供了专业的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。
开放式样品载入热ALD，集成等离子体技术
现场升级到可使用等离子体
从小晶片到200mm大晶片
适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于：
氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
氮化物：TiN, Si3N4
金属： Ru, Pt
ALD应用举例：
纳米电子学
高k栅极氧化物
存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区
有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层
钝化晶体硅太阳能电池
应用于微流体和MEMS的高保形涂层
纳米孔结构的涂层
生物微机电系统
燃料电池
直观性强的的软件提高性能
使用与牛津仪器的值得信赖的Plasmalab ®产品家族相同的软件平台， OpAL的程序驱动、多用户级别、PC2000TM控制的软件易于操作且可为快速ALD做相应修改。
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
售后服务承诺
免费上门安装：是
保修期：1年
是否可延长保修期：否
保内维修承诺：经确认质量问题，免费更换。
报修承诺：24小时内到达现场并开始维修
免费仪器保养：6个月一次。
免费培训：免费安装及技术培训
现场技术咨询：无
