OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。
紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项
适用于小尺寸至200mm的晶圆片
蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体
实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪
ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求
实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪
OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD
牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。
特征
可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境
易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间
机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺
气动起重装置 - 用于安全打开腔室
可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺
应用
纳米电子
高K栅氧化物
存储电容电介质
用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
用于晶体硅太阳能电池的钝化
用于微流体和MEM的高保形涂层
纳米多孔结构的涂层
生物MEMS
燃料电池
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
