SEM中EDS分析高空间分辨率和低能端性能。将Extreme电子电路、无窗设计与几何结构和传感器的优化设计相结合，灵敏度比传统大面积SDD高15倍。
设备特点
可对锂元素进行检测和成像
加速电压小于2kV时块状样品中的空间分辨率低于10nm
在低于1kV加速电压下对材料进行表征
与浸没式电镜相配合，可在高达30kV的加速电压下收集高质量的元素信息
Ultim Extreme 硅漂移探测器是高分辨率场发射扫描电镜应用的一个突破，可提供远远超越传统微米和纳米分析的解决方案。
Ultim Extreme是Ultim Max系列中的一款无窗能谱，晶体面积100mm2，经优化设计来尽可能提高灵敏度和空间分辨率。它采用跑道型结构设计，优化高分辨率场发射扫描电镜在低加速电压和短工作距离下工作时的成像和EDS性能，使用Ultim Extreme，EDS的空间分辨率接近扫描电镜的分辨率。
Ultim Extreme是高分辨率场发射扫描电镜应用中的一个突破性解决方案。该探测器实现了在低的加速电压（例如1-3kV）和非常短的工作距离下进行EDS数据采集和元素分析，从而在高SEM分辨率下分析纳米材料和表面的元素信息。
高分辨率场发射扫描电镜可以用来研究更小的纳米结构、界面和表面。然而，在这些分析条件下，工作距离很小，工作电压非很低，束流需要尽可能小以充分利用镜筒内探测器的电子信号，但现在没有EDS可提供此类元素表征。Ultim Extreme的出现改变了这种现状，它专为此类分析而设计：
优化的几何设计
在更小的工作距离下工作
在传统EDS安装接口上使立体角尽可能提高。立体角通常比Ultim 170大5倍，传感器与试样的距离缩短为普通探测器的一半
无窗设计
与任何其他大面积探测器相比，立体角提高的同时，对低能端X射线的灵敏度提高了10～30倍
新型电子电路提高对极低能量X射线的灵敏度， 增强了高计数率下低能量X射线的分析能力
将AZtec Live和Tru-Q ®分析引擎结合实现低加速电压下的数据处理和分析
优化TruMap用于低电压谱峰重叠校正
为了实现这种独特的几何结构，Ultim Extreme采用非圆形100mm2传感器和无窗设计，这种设计已成功用于X-Max N 100TLE，以优化TEM的灵敏度。此外，该探测器采用新型的体积更小的的电子陷阱设计，可在高达7kV的电压下进行精确定量分析，并在较高能量下进行元素定性分析
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
