ETD-2000C型离子溅射仪在 ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。
工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。
配有高位定性的飞跃真空泵
On the basis of ETD-2000 ion sputtering apparatus, the ETD-2000C type ion sputtering apparatus adds thermal evaporation accessories, which can evaporate carbon filament, and has two functions of sputtering and evaporation. Therefore, the application scope is extended, especially for sample preparation in SEM.
It is easy to control the vacuum chamber pressure, ionization current and choose the required ionization gas when working in conjunction with the internal automatic control circuit, so as to achieve the best coating effect.
High qualitative jump vacuum pump
| 溅射气体 | 靶材 | 溅射电流 | 溅射速率 | 样品仓尺寸 | 样品台尺寸 | 工作电压 |
| 根据实验目的可添加氩气，氮气等多种气体。 | 标配靶材为金靶，厚度为50mm*0.1mm。也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。蒸发为碳绳 | 最大电流 50mA,最大工作电流30mA | 优于4nm/min | 直径160mm，高120mm | 样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台 | 220V (可做110V), 50HZ |
需要镀膜的样品
| 电子束敏感的样品 | 非导电的样品 | 新材料 |
主要包括生物样品，塑 料样品等。S EM中的电 子束具有较高能量，在 与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部 分能量传递给样品。如 果样品是对电子束敏感 的材料，那这种相互作 用会破坏部分甚至整个 样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材 料制备的表面镀层就 可以起到保护层的作用，防止此类损伤； | 由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。 | 非导电材料实验电极制作观察导电特性 |
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
