日本电子BS-80020CPPS等离子体源 表面改性

Features特性

BS-80020CPPS低温工艺等离子源

该等离子体源专门用于低温工艺，例如塑料基板/薄膜。真空沉积膜的薄膜质量可以通过等离子辅助沉积来降低基板的温度升高来改善。并且也可用于等离子体处理，如清洁和表面改性。

在低温过程中能形成高密度氧化膜。

电子束激发等离子体的反应沉积，与离子辅助效应有关。

活化反应蒸发（ARE）技术，促进坩埚上方的高效放电，以增强蒸发材料的电离。

可选择CPPS模式、低温工艺和正常等离子模式。

可以改装到现有的真空室。

技术规格：

zei大放电输出	3.2kW (160V, 20A)
zei大辅助输出功率	2kW (200V, 10A)
工作压力	8×10-3 ～ 8×10-2Pa (Ar, O2, N2 气氛)
放电气体(Ar)	8 ～  20mL/分
适用控制电源	BS-92040CPPC

功能简介：

BS-80020CPPS等离子体源

BS-80020CPPS是用于辅助低温（100℃以下等）下塑料基板和胶片成膜的等离子体源。

本系列产品是专门为等离子源与低温过程，如塑料膜或基板。 真空薄膜质量的沉积膜可以通过沉积以等离子体辅助改善，随着衬底温度的升高降低。 该项目也可用于等离子体处理，如表面改性和清洗。。
反射的沉积是由电子束激发的等离子体成为可能，而技术（活性反应蒸发）促进高效放电，为了提高蒸发物质电离。 有多种操作模式，包括当前的模式，以及正常的等离子体模式。

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