全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000用于靶材

全自动磁控离子溅射仪是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是：在高真空的条件下，入射离子（Ar+）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。但是，电子会受到电场和磁场的作用，产生漂移，因而导致传溅射效率低，电子轰击路径短也会导致基片温度升高，为了提高溅射效率，在靶下方安装强磁铁，中央和周圈分别为N、S极。

产品特点

液晶显示屏简便操作

自动抽真空做样

自动放气

溅射电流范围大

溅射效率高

颗粒度小

样品表面无温升

适用温度敏感性样品

应用领域

场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备

技术指标

工作方式：全自动磁控

溅射电流：5-45mA

靶材：金、铂（标配、二选一）

溅射电压：600V

真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）

真空度：＜1Pa

产品特性

本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域，液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升，适用温度敏感性样品等特点，可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000用于靶材由北京中科科仪股份有限公司 为您提供，如您想了解更多关于全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000用于靶材报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。