日本电子BS-80011BPG产生高密度内置型等离子源 可以改装到现有的真空室

技术规格：

大等离子体输出： 6kW (160V, 38A)

操控压力： 1×10-2 to 1×10-1Pa (Ar, O2, N2 atmosphere)

(Ar) 放电气体（氩气）： 8 to 20mL/min

冷却水流速： 7 to 10L/min

电子束方法 ：反射电子束和辐射电子束可选selectable from Reflection-beam and Irradiation-beam

BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪

安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术（离子镀），能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外，还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。

这一系列的等离子体源可以被纳入一个真空室，产生高密度等离子体。本产品还可以用作等离子体辅助沉积单元，从而提高应用如光学薄膜的膜性能，防护功能的电影。
该产品也可用于等离子体处理，如表面改性和清洗，而大电流，低压等离子体的电离和激发使气体分子和蒸发的粒子，随着反应沉积的可能性。
zei后，由于高密度等离子体也可以在大众空间产生的高速率沉积大面积是可能的。

特性：

等离子体源被整合到真空室中并产生高密度等离子体。等离子体源可用作等离子体辅助沉积（离子镀），并且可以改善光学薄膜、保护膜和功能膜的薄膜性能。并且也可用于等离子体处理，如清洁和表面改性。

低电压和大电流等离子体能够电离和激发气体分子和蒸发的颗粒。

反应沉积是可能的，特别适用于促进薄膜氧化。

高密度等离子体可以在质量空间中产生，因此可以高速率沉积到大面积。

可以改装到现有的真空室。

 效果:

提高薄膜密度，折射率

环境稳定性膜

波长漂移小

光学吸附少

提高膜粘附性

提高表面强度

控制膜压力

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