日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统适用于超微细加工以及批量生产_价格_型号

产品规格：

主要技术指标

机型	G1 (基本版)	G2 (全配版)
描画方式	圆形束斑, 矢量扫描, 步进重复移动方式	←
加速电压	100kV	100kV/50kV
电流	5×10-12　～　2×10-7A	←
写场尺寸	zei大1,000μm×1,000μm	zei大2,000μm×2,000μm
扫描频率	zei大125MHz	←
样品台移动范围	190mm×170mm	←
套刻精度	≦±9nm	←
场拼接精度	≦±9nm	←
正常工作时的功耗	3kVA	←
样品尺寸	zei大200mmΦ的晶圆片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小样品。	←
材料传送	（1张）自动装载系统	（12张）自动装载系统
主要选配件	光学显微镜 25kV加速电压数据准备程序的追加授权

JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统

zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。

产品特点：

◇ 高产能

具备高分辨率和高速两种刻写模式，非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时，并将扫描频率提升至业界zei高zei水准的125MHz (以往机型的1.25～2.5倍)，使其具备更高的生产能力。

◇ 机型

JBX-8100FS系列设有G1（基本版）和G2（全配版）两种机型。G1机型装机后也可进行升级，使其支持更高的应用需求。

◇ 新功能

安装光学显微镜（选配）后，在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔（标配），实现了视觉范围内的系统运行状况监控。

◇ 激光定位分辨率

采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪，对样品台位置进行高精度的量测控制。

◇ 系统控制

配备了Linux®系统，图形用户界面使操作更加简单，便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®

◇ 节省空间

标准的设备占地面积为4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往机型占用空间更小，外形更加紧凑美观。

◇ 低功耗

正常工作时的功耗约为3kVA，仅需以往机型耗电量的1/3。

备注：
Linux® 为Linus Torval在日本及其它国家的注册商标或商标。
Windows为美国微软公司在美国及其它国家的注册商标或商标。

日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统适用于超微细加工以及批量生产由日本电子株式会社(JEOL) 为您提供，如您想了解更多关于日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统适用于超微细加工以及批量生产报价、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统 适用于超微细加工以及批量生产