日本电子IB-19530CP截面样品制备装置 离子束溅射镀膜

产品特点：

为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。

根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。

◇ 设置简单

   功能性样品座采用模块化设计，在光学显微镜（另售）下也能调整加工位置。

◇ 多用途样品台

   通过选择各种功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。

◇ 高耐久性遮光板

   遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右，能支持高速率加工和长时间刻蚀。

◇ 高通量

   通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。

◇ 自动加工程序

   快速加工和精抛加工可以程序化，短时间内就能制备出高质量的截面。此外，利用间歇加工模式，还能抑制加工温度。

主要技术指标

离子加速电压	2～8kV
刻蚀速率	500μm/h
承载样品的zei大尺寸	11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度)
样品摆动功能	刻蚀过程中，样品自动摆动±30° (专利：第4557130号)
自动加工开始模式	达到设定的压力值后可自动开始加工。
间歇加工模式	脉冲控制离子束流照射，可以抑制加工时产生的热量。
精抛加工模式	主加工结束后，自动开始精抛加工。

*产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。

IB-19530CP　截面样品制备装置

为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。

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