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日本电子EM-09100IS 离子切片仪   快速制备图1

日本电子EM-09100IS 离子切片仪 快速制备

2026-01-03 22:258030询价
价格 面议
发货 北京
品牌 日本电子
产地 日本
型号 EM-09100IS
该产品库存不足
产品详情

主要特点:

高质量的透射电镜样品的前处理

快速制备

无需复杂的前处理

zei小限度的表面损伤


产品规格


EM-09100IS
离子加速电压1 ~ 8kV
倾斜角Up to 6°(0.1°/步)
离子束直径500μm(FWHM)
Milling rate5m/min (加速电压:8 kV, Si换算) 
使用气体氩气
zei大样品尺寸2.8mm(长度)×0.5 mm(宽度)×0.1mm(厚度)
压力测试潘宁规
主抽真空系统涡轮分子泵
CCD相机内置
尺寸 重量主机500mm(W)×600mm(D)×542mm(H)、63kg
机械泵150mm(W)×427mm(D)×230.5mm(H)、16kg
液晶显示器326mm(W)×173mm(D)×380mm(H)、3.7kg


安装条件


EM-09100IS
电源单相,  AC100 ~ 120V, 50/60Hz, 500 ~ 600VA
接地线独立地线(100Ω以下)
氩气使用压力: 0.15±0.05MPa(1.0 ~ 2.0kg/cm2)
氩气流量:约0.2立方厘米
纯度: 99.9999%以上 (氩气、气瓶及调压器由客户自备)
金属配管连接口:JISB0203 RC1/8
室温20 ~ 25℃(fluctuation: 1°C/hor less变动少于1°C/h)
湿度60% 以下

*请提供安放设备的桌子。

*产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。

EM-09100IS 离子切片仪

用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER样品制备的创新方法 离子切片仪制备薄膜样品比传统制备工具快速、简单。低能量、低角度(0°到6°)的氩离子束通过遮光带照射样品,大大降低了离子束对样品的辐照损坏。即使是柔软的材料,制备的薄膜质量也极好,对不同成份的样品甚至含有多孔合成物也都能够有效制备。

产品特点:

用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER样品制备的创新方法

离子切片仪制备薄膜样品除了需要将样品切成矩形薄片外,不需要溶剂或化学试剂及前处理(打磨或凹坑研磨),比传统制备工具快速、简单。低能量、低角度(0°到6°)的氩离子束通过遮光带照射样品,大大降低了离子束对样品的辐照损坏。即使是柔软的材料,制备的薄膜质量也极好,对不同成份的样品甚至含有多孔合成物也都能够有效制备。


日本电子EM-09100IS 离子切片仪 快速制备由日本电子株式会社(JEOL) 为您提供,如您想了解更多关于日本电子EM-09100IS 离子切片仪 快速制备报价、参数等信息 ,欢迎来电或留言咨询。

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