全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

产品特点

液晶显示屏简便操作

自动抽真空做样

自动放气

溅射电流范围大

溅射效率高

颗粒度小

样品表面无温升

适用温度敏感性样品

应用领域

场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备

技术指标

工作方式：全自动磁控

溅射电流：5-45mA

靶材：金、铂（标配、二选一）

溅射电压：600V

真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）

真空度：＜1Pa

产品特性

本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域，液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升，适用温度敏感性样品等特点，可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。

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