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日本电子DART 实时直接分析离子源
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日本电子JMS-700 MStation高性能双聚焦磁质谱仪 容易地获得60,000 以上的分辨率
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日本电子JMS-700 MStation高性能双聚焦磁质谱仪 适合于正负离子的高灵敏度测试
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日本电子JMS-700 MStation高性能双聚焦磁质谱仪 离子源和各种参数具有自动调谐功能
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日本电子JMS-700 MStation高性能双聚焦磁质谱仪 全部采用电脑控制
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日本电子JMS-700 MStation高性能双聚焦磁质谱仪
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日本电子JMS-MT3010HRGA INFITOF 飞行时间质谱仪 离子的最长飞行距离高达200ｍ
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日本电子JMS-MT3010HRGA INFITOF 飞行时间质谱仪 检测氢离子
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日本电子JMS-MT3010HRGA INFITOF 飞行时间质谱仪 新能源的先进材料开发
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日本电子JMS-MT3010HRGA INFITOF 飞行时间质谱仪 未来氢社会的构建
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日本电子JMS-MT3010HRGA INFITOF 飞行时间质谱仪
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日本电子JBX-6300FS 电子束光刻系统 独自的自动校正功能(自动补偿功能)
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日本电子JBX-6300FS 电子束光刻系统 通信设备
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日本电子JBX-6300FS 电子束光刻系统 光子器件
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日本电子JBX-6300FS 电子束光刻系统 可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形
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日本电子JBX-6300FS 电子束光刻系统
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 公司独自的自动校正功能
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 通信设备
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 光子器件
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 纳米压印
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 步进重复式曝光的优点
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 基于加速电压50 kV的可变矩形电子束
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 制作28nm～22/20nm节点的中间掩模版
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 制作28nm～22/20nm节点的掩模版
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统
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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统 步进重复式的光刻系统
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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统 基于加速电压50 kV的可变矩形电子束
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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统 用于制作45nm～32nm 节点的中间掩模版
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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统 用于制作45nm～32nm 节点的掩模版
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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统
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日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统 适用于超微细加工以及批量生产
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日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统 节省空间
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日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统 采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪
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日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统 仅需以往机型耗电量的1/3
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日本电子JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 升华性物质
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 化合物
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 氧化物
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪 金属
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日本电子BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪
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日本电子JSM-IT100钨灯丝扫描电子显微镜 生物技术
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日本电子JSM-IT100钨灯丝扫描电子显微镜 纳米技术
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日本电子JSM-IT100钨灯丝扫描电子显微镜 材料测试
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日本电子JSM-IT100钨灯丝扫描电子显微镜 材料开发
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日本电子JSM-IT100钨灯丝扫描电子显微镜
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日本电子JEBG系列大功率电子枪 生产和提炼Ti、Mo等高熔点金属锭
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日本电子JEBG系列大功率电子枪 提炼太阳能电池多晶硅
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日本电子JEBG系列大功率电子枪 真空熔解
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日本电子JEBG系列大功率电子枪 真空蒸镀
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