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半导体级盐酸中的元素杂质的测定 电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)

2025-02-23 00:4600下载
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  【仪器网 行业应用】研究显示NexION 2200 ICP-MS具有良好的稳定性,适用于浓盐酸(HCl)中ng/L水平的超痕量杂质的常规定量。数据表明UCT可有效消除氯基体带来的质谱干扰。

  在反应模式下,可在SEMI C27-0918 Tier-D水平直接测量20% HCl中的杂质。这种方法消除了复杂的样品预处理或稀释的需求,从而最大限度地降低了污染风险。

半导体级盐酸测定

  01实验

  所有样品制备和分析步骤均在受控实验室中100级性能的洁净间中进行。

  样品和标准溶液制备

  采用标准加入法(MSA)直接分析未稀释的20%超纯盐酸(Tamapure-AA 10,Tama Chemicals,日本神奈川)。通过对几组10 mg/L多元素标准品(珀金埃尔默Pure,珀金埃尔默,美国康涅狄格州谢尔顿)进行连续稀释,并将最终标准品直接加标到20% HCl中,制备标准溶液。

  仪器

  所有实验均使用NexION 2200 ICP-MS(珀金埃尔默,美国康涅狄格州谢尔顿)执行。本文使用两种反应气体(NH3和O2)来解决质谱干扰。P、S、As和Se使用O2为反应气体在质量转移模式中测量,其余元素以NH3作为反应气体在On Mass模式中测量。在1%HNO3中加入1000 ppt标准溶液,对操作条件进行优化。仪器参数和进样组件见表2。每种分析物的模式和反应池带通设置列在表3中。

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