Quantum Design Japan公司推出的激光浮区法单晶生长系统传承日本理化研究所(RIKEN,CEMS)的先进设计理念，新一代高性能激光浮区炉具有高功率、更加均匀的能量分布和更加稳定的性能，将浮区法晶体生长技术推向一个全新的高度！
激光浮区法单晶生长系统可广泛用于凝聚态物理、化学、半导体、光学等多种学科领域相关单晶材料制备，尤其适合高饱和蒸汽压、高熔点材料及高热导率材料等常规浮区法单晶炉难以胜任的单晶生长工作，跟传统的激光浮区法单晶生长系统相比，Quantum Design公司推出的新一代激光浮区法单晶炉系统具有以下技术优势：
采用全新五路激光设计，确保熔区能量分布更加均匀
更加科学的激光光斑优化方案，有助于降低晶体生长过程中的热应力
采用了独特的实时温度集成控制系统
传统的五束独立激光源能量分布欠均匀 | 全新五路激光设计，能量更均匀 |
新一代激光浮区法单晶炉系统主要技术参数：
加热控制 | 加热类型 | 5束激光 |
激光功率 | 2KW | |
熔区温度高达 | ~3000℃* | |
测温范围 | 900℃~3500℃ | |
温度稳定性 | +/-1℃ | |
晶体生长控制 | 晶体生长长度 | 150mm*（Max） |
晶体生长直径 | 8mm*（Max） | |
晶体生长速度/转速 | 300mm/hr;100rpm（Max） | |
样品腔真空度/压力 | 10-4torr to 10 bar | |
样品腔气氛 | O2/Ar/混合气 | |
晶体生长监控 | 高清摄像头 | |
晶体生长控制 | PC控制 | |
其它 | 占地面积 | D140 x W210 x H200 (cm) |
*具体取决于材料及实验条件
RIKEN（CEMS）设计的全新五束激光发生器原型机实物及原理图 | |
采用新一代激光浮区法单晶炉系统生长出的部分单晶体应用案例：
Ruby | Dy2Ti2O7 | BaTiO3 |
Sr2RuO4 | SmB6 |
Ba2Co2Fe12O22 | Y3Fe5O12 |
* 以上单晶图片由 Dr. Y. Kaneko (RIKEN CEMS) 提供
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
售后服务承诺
免费上门安装：是
保修期：1年
是否可延长保修期：是
保内维修承诺：免费维修或更换零件；本地储备货值超过50万美元的备件，迅速响应故障诊断和维修。
报修承诺：QD中国承担中国区本地售后服务工作，专业、迅速解决用户在仪器使用过程中的问题。
免费仪器保养：QD中国工程师会依据使用情况定期回访用户、给予维护建议，保障设备良好运转。
免费培训：初次安装培训
现场技术咨询：有
