显微分光膜厚仪

OPTM 系列显微分光膜厚仪
头部集成了薄膜厚度测量所需功能

通过显微光谱法测量高精度绝对反射率（多层膜厚度，光学常数）

1点1秒高速测量

显微分光下广范围的光学系统（紫外至近红外）

区域传感器的安全机制

易于分析向导，初学者也能够进行光学常数分析

独立测量头对应各种inline客制化需求

支持各种自定义
 

OPTM 系列显微分光膜厚仪选型表
 

OPTM-A1	OPTM-A2	OPTM-A3
波長范围	230 ~ 800 nm	360 ~ 1100 nm	900 ~ 1600 nm
膜厚范围	1nm ~ 35μm	7nm ~ 49μm	16nm ~ 92μm
测定时间	1秒 / 1点
光斑大小	10μm (*小约5μm)
感光元件	CCD		InGaAs
光源規格	氘灯+卤素灯		卤素灯
电源規格	AC100V±10V 750VA（自动样品台规格）
尺寸	555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自动样品台规格之主体部分)
重量	约 55kg（自动样品台规格之主体部分）

 

测量项目：

绝对反射率测量

多层膜解析

光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）

 

测量示例：SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚测量

半导体晶体管通过控制电流的导通状态来发送信号，但是为了防止电流泄漏和另一个晶体管的电流流过任意路径，有必要隔离晶体管，埋入绝缘膜。 SiO 2（二氧化硅）或SiN（氮化硅）可用于绝缘膜。 SiO 2用作绝缘膜，而SiN用作具有比SiO 2更高的介电常数的绝缘膜，或是作为通过CMP去除SiO 2的不必要的阻挡层。之后SiN也被去除。 为了绝缘膜的性能和精确的工艺控制，有必要测量这些膜厚度。

 

显微分光膜厚仪由北京卓立汉光仪器有限公司 为您提供，如您想了解更多关于显微分光膜厚仪报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。