帕克 NX-3DM 原子力显微镜 光刻胶沟槽临界尺寸测量

Park NX-3DM的特点

 

倾斜式Z轴扫描系统

NX-3DM独具匠心地将Z轴扫描器倾斜设计，且通过专利的串扰消除原子力显微镜平台，XY轴与Z轴扫描器完全解耦。用户可以扫描到垂直侧壁以及各种角度的侧凹结构。与配有喇叭形头的系统不同，XE-3DM可使用高分辨率高长宽比的探针。

 

全自动图形识别

借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件，Park NX-HDM让全自动图形识别和对准成为可能。

 

自动测量控制

自动化软件让XE-3DM的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化，为您提供多位置分析。

 

真正非接触模式和更长的探针使用寿命

得益于专利的高强度Z轴扫描系统，XE系列原子力显微镜让真正非接触模式成为可能。真正非接触模式借助了原子间的相互吸引力，而非相互排斥力。

 因此，在真正非接触模式下，探针与样品间的距离可以保持在几纳米，从而盖上原子力显微镜的图像质量，保证探针尖端的锋利度，延长使用寿命。

 

行业最低的本底噪声

为了检测最小的样品特征和成像最平的表面，Park推出行业本底噪声最低（< 0.5?）的显微镜。本底噪声是在“零扫描”情况下确定的。由于悬臂与样品表面接触，因此系统噪声是在如下条件下单点测量：

 

? 扫描范围为0 nm x 0 nm，探针停留在一个点  

? 0.5增益，接触模式

? 256 x 256像素

  

*　选项

高通量自动化

自动探针更换(ATX)

借助自动探针更换功能，自动测量程序能够无缝衔接。该系统会根据参考图形测量数据，自动校正悬臂的位置和优化测量设定。创新的磁性探针更换功能，成功率高达99%，高于传统的真空技术。

 

自动晶片装卸器(EFEM或FOUP)

您可以在XE-3DM中加装自动晶片装卸器(EFEM或FOUP或其他)。高精度无损晶片装卸机械臂能够百分百保证NX-3DM用户享受到快速且稳定的自动化晶片测量服务。

 

离子化系统

NX-3DM可搭载离子化系统，以有效消除样品的静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡，便可以稳定地离子化带电物体，且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。

 

*　应用

 

侧壁和侧凹高分辨率成像 侧壁和侧凹临界尺寸(CD)测量

NX-3DM的倾斜式Z轴扫描器设计让探针能够扫描到光刻胶的侧壁和侧凹结构。

·      独有的XY轴和Z轴解耦扫描系统和倾斜式Z轴扫描器

·      Z轴扫描器可在 -19到+19度和-38到+38度之间随意摆动

·      法向高长宽比的探针带来高分辨率成像

·      XY轴扫描范围可达100 μm x 100 μm

·     高强度Z轴扫描器带来最大25 μm的Z轴扫描范围

 

完整的侧壁3D测量高分辨率侧壁粗糙度

借助超锋利的探针尖端，NX-3DM的倾斜式Z轴扫描器可接近侧壁，带来高分辨率的侧壁粗糙度细节。

·      侧壁粗糙度测量

·      精确的侧壁角度测量

·      垂直侧壁的临界尺寸测量

 True Non-Contact&#8482;模式实现无损临界尺寸和侧壁测量光刻胶沟槽临界尺寸测量

独有的True Non-Contact模式能够线上无损测量小至45 nm的细节。

·      业内最小的细节线上测量

·      柔软光刻胶无损测量

·      探针磨损更少，让高质量和高分辨率成像效果更佳持久

·      无需轻敲式成像中的参数依赖结果

帕克 NX-3DM 原子力显微镜 光刻胶沟槽临界尺寸测量由Park帕克原子力显微镜 为您提供，如您想了解更多关于帕克 NX-3DM 原子力显微镜 光刻胶沟槽临界尺寸测量报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。