马尔文帕纳科Wafer XRD 200 X射线衍射仪

概述

                       

Wafer XRD 200 是装备齐全的自动化 X射线衍射系统，用于晶圆生产和研究，可提供出众速度和高精度。

此产品精心设计，只为无缝融入您的工艺生产线，可提供晶体取向、缺口和平槽等几何特征识别、距离测量等关键数据，以及电阻率等更多选项。

 

功能和优势出众快速且精确：方位扫描方法

方位扫描方法只需要一次测量旋转即可收集所有必要的数据以完全确定方位，因此能够在不影响精度的情况下在 10 秒内提供结果。

样品旋转 360^o，X射线源和探测器的位置可以实现每转一定数量的反射。这些反射使得能够以高达 0,003^o 高精度测量晶格相对于旋转轴的取向。

全自动处理和拣选

Wafer XRD 200 能够在不到 10 分钟内测量整载盘共 25 个晶圆，完全独立完成测量，是质量控制流程中强大且高效的元素。

Wafer XRD 200 的运行成本较低，这得益于其低能耗和风冷 X射线光管 - 无需水冷却。

       

轻松连接

该仪器可以使用其各种 MES、SECS/GEM 和类似接口轻松集成到生产环境的现有流程中。

       

更深入的见解

Wafer XRD 200 可助您前所未有地了解材料，能够测量：

晶体取向

缺口位置、深度和开角

定位边位置和长度

直径

电阻率等。

功能多样且灵活

Wafer XRD 200 非常适合需要快速分析大量样品的生产环境。

它可以测量直径达 200 毫米的样品，由于可以测量以下已定义材料中的一种，因此具有很高的稳定性：

SiC

GaAs

Si

Al₂O₃（蓝宝石）

InP

其他任何单晶材料

主要应用

                       

材料研究

质量控制

生产和加工

规格

                       

处理量	每月处理超 10000 片晶圆
晶圆几何形状	根据要求
倾斜精确度	0.003
XRD 轴与缺口/定位边的位置关系	0.03°

支持

                       

支持服务 

电话和远程支持

预防性维护和检查

灵活的客户服务协议

性能认证

硬件和软件升级

本地和全球支持

专业知识

元素与结构半导体计量的一站式解决方案

自动化与咨询服务

培训和教育

马尔文帕纳科Wafer XRD 200 X射线衍射仪由马尔文帕纳科 为您提供，如您想了解更多关于马尔文帕纳科Wafer XRD 200 X射线衍射仪报价、参数等信息 ，欢迎来电或留言咨询。