Si+SiO2薄膜

产品名称：	Si+SiO2薄膜
产品简介：
技术参数：	常规晶向：<100>, <111>,掺杂类型：N型掺杂 或者 P型掺杂制作方法：干法或湿法薄膜厚度：常规厚度300nmSiO2
常规尺寸：	dia4"x0.5mm；dia2"x0.5mm；单面氧化 或者 双面氧化 可按照客户要求加工氧化层厚度:50nm~1um
标准包装：	1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装

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