Si+SiO2+Si3N4薄膜（进口料）

常规尺寸：

dia 50.8±0.5 mm x 0.250 ±0.025 mm

备注：

可按照客户要求镀膜50-1000nm；

标准包装：

技术参数：

1000级超净室100级超净袋真空包装或单片盒装

研究级别：

about 80 % useful area

生长方法：

在1000℃干氧法

折射率：

- 1.455

Si参数：

<100>±0.5°；P型掺B ；R：0.01-0.1 ohm-cm，

抛光：

双面抛光