Lauda Semistat 半导体专用工艺过程恒温器

Lauda Semistat 半导体专用工艺过程恒温器

LAUDA Semistat热电过程恒温器 适用于 -20 至 90 °C 的半导体行业

为苛刻的工艺过程快速和精确的温度控制

热电温度控制系统LAUDA Semistat为等离子刻蚀工艺提供稳定的可重复性的温度控制。系统动态地控制静电卡盘(ESC)的温度并可以用在任何的刻蚀工艺中。LAUDA Semistat 热电温度控制系统设计的基础是基于帕尔帖原理的温度转换， 这些原件可以实现快速且精准的温度控制，满足了当今元器件生产尺寸越来越小的要求。

与基于压缩机的系统相比，热点在线使用 Semistat 温度控制系统，降低能耗多达 90 %。可安装在使用地点的地下，非常节省空间，这样最大限度地减少无尘室的使用。快速和精准地将过程温度曲线控制在 ±0.1 K，从而提高晶圆间均质性。

产品型号：S 1200/ S 2400/ S 4400

低能耗，没有压缩机和制冷剂的系统

占地空间小，如果放置在地板下方则不占用Sub-Fab

极低的导热液体填充量