日立9000系列半导体蚀刻系统

日立9000系列半导体蚀刻系统专为20纳米以下先进制程设计，支持双重图案、3D结构及新材料的高精度复杂工艺，涵盖后道处理与保护膜形成。其模块化串接式平台整合9个腔室，采用成熟的微波ECR等离子体技术，确保工艺扩展性与灵活性，适配未来450mm晶圆标准。统一接口设计和高精度模块化腔室增强了设备兼容性，助力客户平滑升级。核心卖点包括量产验证的稳定性、工艺弹性及面向下一代器件的标准化平台，但需注意实际规格可能与图示存在差异。