EMU-120/65是一款能够兼顾高通光量、高分辨率和宽光谱测量的中阶梯光栅光谱仪，采用数值孔径F/3的光学设计，波长范围190-1100nm，分辨力60,000（λ/FWHM），并获得美国专利保护。EMU-120/65中阶梯光栅光谱仪是LIBS、拉曼、OES/AES、光致发光等测量的理想工具，相比F/10中阶梯光栅光谱仪，灵敏度提高10倍以上。
EMU-120/65的另一大优势可以选用EMCCD相机，相比于ICCD相机具有更高的量子效率、分辨率和帧频，而且EMCCD相机不会轻易被强光损坏，对使用条件的要求不高。
此外，超低杂散光的光学设计加上软件控制的杂散光去除算法，使得EMU-120/65成为一款针对吸收光谱测量非常强大的仪器。
产品特点：
- 高通光量F/3
- 光谱分辨力60,000（λ/FWHM）
- 宽光谱范围190-1100nm（可选400-1700nm）
- 无需机械扫描，一次曝光获得全光谱
- 用户可自行更换光栅和入射狭缝，灵活调整通光量和分辨率
光谱分辨力
EMU-120/65卓越的光学设计实现了单个像素的分辨力。能够清晰分辨汞Hg的双峰313.155nm和313.184nm。每个峰对应一个CCD像素宽度（8微米），FWHM值0.0049nm ，分辨力63,000。
通光量/收光效率
下图是EMU中阶梯光栅光谱仪（蓝色）和SE 200中阶梯光栅光谱仪（红色）测量氘/卤钨灯的光谱对比，其中EMU数值孔径F/3，SE 200数值孔径F/10，两台光谱仪采用相同的光栅、相机和狭缝。
下图是铁元素Fe的LIBS光谱对比，EMU中阶梯光栅光谱仪搭配EMCCD（蓝色），SE 200中阶梯光栅光谱仪搭配ICCD（红色）。
杂散光和散射光
下图的过度曝光的HeNe激光线显示了主要是由光栅引起的小角度散射。散射光被测量为HeNe峰值强度的一部分，并且它在距离峰值1纳米处下降到CCD动态范围极限以下。EMU-120/65旨在最 大限度地减少受散射影响区域的杂散光。
产品指标：
数值孔径 | F/3 |
焦长 | 120mm |
放大率 | 0.54 |
波长范围 | 190-1100nm |
散射光 | 2.0 x 10-5 @ 1nm HeNe激光 |
杂散光 | 2.0 x 10-6 |
光纤输入 | SMA接头 |
入射狭缝 | 用户可以自行更换不同规格的狭缝 狭缝宽度8-128微米，狭缝高度12-128微米 |
光谱分辨力 | 用户可以自行更换不同型号的光栅，不同型号对应不同的分辨力R HT Series: up to R = 9,500 HR Series: up to R = 12,000 UV Series: up to R = 30,000 IS Series: up to R = 40,000 IX Series: up to R = 60,000 |
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
