MIPC1000多功能等离子清洗仪

MIPC1000多功能等离子清洗仪

专门针对SEM/TEM等各类表面/微观分析设备开发，能够有效去除样品/样品杆表面污染物，防止碳沉积带来图像分辨率降低及对样品微区成分分析造成误判，同时可改善样品表面亲水性

主要应用

FIB/SEM/TEM/Nano Probe

XPS/GC/SIMS

Synchrotron Radiation

各类真空腔体清洗

各类分析设备样品清洗

多功能等离子清洗仪

MIPC1000多功能等离子清洗仪，专门针对SEM/TEM等各类表面/微观分析设备开发，能够有效去除样品/样品杆表面污染物，防止碳沉积带来图像分辨率降低及对样品微区成分分析造成误判，同时可改善样品表面亲水性。
该系统配备7英寸超大清洗样品杆，同时清洗多个样品，利用快旋头设计，可满足SEM/FIB/EPMA/SIMS/XPS/TEM等各类真空腔体清洗，提升仪器分析准确性。
最多可配备四路气体进气系统，搭配高精度质量流量计（MFC），可实现任意比例气体混合，从而实现不同工艺气体清洗需求。通过配备的7英寸触屏控制系统，能够实现清洗配方的建立和存储，可实现一键完成样品清洗。
独特的Downstream过滤电场能够过滤传统等离子体中离子/电子成分，仅利用低能自由基进行清洗，能够去除溅射损伤、热效应及刻蚀效应对样品微观结构和成分的破坏。

满足各类真空设备样品/样品舱清洗，同时可对电镜光阑、各类真空部件进行清洗，满足各种清洗需求。

多功能：

具备在线腔体清洗和独立清洗功能

高效性：

ICP诱导激发，清洗范围广

超高真空清洗：

＜5mTor ~ 2Tor

清洗功率范围大：

0-100W

清洗柔和：

Downstream设计，无溅射效应， 无热效应

可同时清洗/存储两根透射电镜样品杆

扩展性好：

采用快旋头，等离子发生器可轻松对各类真空腔体进行清洗

超大清洗样品舱：

直径7英寸X7英寸高

能够碳膜清洗，增加增加碳膜亲水性

触屏控制：

7英寸触屏，配方式操作

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