Q150V Plus 系列镀膜仪

简介

Q150V Plus系列镀膜仪专为高真空环境下的超精细导电镀膜设计，其zui终真空度优于1×10-6mbar，能有效去除腔室内的氧气、氮气和水蒸气，避免化学反应导致的杂质或缺陷。该设备可以制备低散射高纯度金属膜及高密度非晶碳膜，并具备更精细的晶粒尺寸和更薄的镀层，特别适用于超高分辨率成像。

Q150V Plus系列镀膜仪适用于高真空应用中的超精细导电镀膜

       Q150V Plus针对高真空应用进行了进一步优化，zui终真空度优于1×10-6mbar，同时配置全量程规，能够溅射具有晶粒尺寸更细的金属膜，适用于超高分辨率成像。得益于更低的背景真空，能够有效的从腔室中去除氧气、氮气和水蒸气避免了溅射过程中的化学反应，有效的消除镀层中的杂质或缺陷。能够实现制备低散射高纯度金属膜以及高密度的非晶碳膜等。Q150V Plus提供了Q150T Plus的所有功能，同时具有更精细的晶粒尺寸和更薄的镀层，适用于超高分辨率成像应用。