薄膜制备领导者

BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是最理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

1、脉冲激光沉积系统

产品特点：

◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体 ◆ 可集成热蒸发源或溅射源 ◆ 可旋转的耐氧化基片加热台

◆ 流量计或针阀精确控制气体流量 ◆ 标准真空计 ◆ 干泵与涡轮真空泵 ◆ 可选配不锈钢快速进样室

◆  可选配基片-靶材距离自动控制系统 ◆  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的最佳设备

 

2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）

产品特点 ◆  超高真空不锈钢腔体 ◆  电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成 ◆  独立衬底加热，可旋转 ◆  多量程气体流量控制器 ◆  标准气压计

◆  机械、分子、冷凝真空泵 可选不锈钢快速进样室 ◆  衬底和源距离可控 ◆  可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

  

3、热化学气相沉积系统（TCVD）

产品特点 ◆  高温石英管反应器设计 ◆  温度范围：室温到1100℃ ◆  多路气体精确控制 ◆  标准气压计 ◆  易于操作

◆  可配机械泵实现低压TCVD ◆  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 ◆  液体前驱体喷头 ◆  2英寸超大完美温度均匀区

4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）

产品特点： ◆  水冷不锈钢超高真空腔 ◆   热丝易安装、更换  ◆  4个不同量程气体控制器 ◆  标准气压计 ◆  衬底与热丝距离可调节 ◆  2英寸衬底加热、可旋转  ◆  完美制备金刚石和石墨烯

5、薄膜/涂层制备服务

产品特点  ◆  为您制备您所需的薄膜或涂层，避免您在设备或制备过程上的投资。 ◆  快速实现您的科研设想 ◆  庞大的备选材料库，选择最适合您的材料 ◆  多种薄膜制备手段可供选择，包括：PLD、电子束蒸发、热蒸发、Hot Filament CVD、MOCVD 无论您需要绝缘涂层、透明涂层、金属薄膜或顶电极我们广阔的材料库均能满足您的需求。我们还为您提供特殊的涂层定制服务。 我们有超过20年的镀膜经验，我们已与多所大学与国家实验室合作，成为镀膜服务行业的领导者。

 

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售后服务承诺

免费上门安装：是

保修期：1年

是否可延长保修期：是

保内维修承诺：免费维修或更换零件；本地储备货值超过50万美元的备件，迅速响应故障诊断和维修。

报修承诺：QD中国承担中国区本地售后服务工作，专业、迅速解决用户在仪器使用过程中的问题。

免费仪器保养：QD中国工程师会依据使用情况定期回访用户、给予维护建议，保障设备良好运转。

免费培训：初次安装培训

现场技术咨询：有