台式三维原子层沉积系统ALD
原子层沉积（Atomic layer deposition, ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性，因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可最多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计， 使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现对高达1500：1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。 |
GEMStar XT 产品特点： ■ 300℃ 铝合金热壁，对流式温度控制 ■ 175℃ 温控150ml前驱体瓶，200℃ 控输运支管 ■ 可容纳多片4，6，8英寸样品同时沉积 ■ 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体 ■ 标准CF-40接口 ■ 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件 ■ 等离子体辅助ALD插件 ■ 多种配件可供选择 | GEMStar XT 产品型号： GEMStar -4 XT： ■ 最大4英寸/100 mm基片沉积 ■ 单路前驱体输运支管， 4路前驱体瓶接口 ■ 不可升级为等离子体增强ALD GEMStar -6/8 XT： ■ 最大6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉积 ■ 双路前驱体输运支管， 8路前驱体瓶和CF-40接口 ■ 可升级为等离子体增强ALD |
GEMStar -8 XT-P： ■ 最大8英寸/200mm基片沉积 ■ 双路前驱体输运支管， 8路前驱体瓶和CF-40接口 ■ 装备高性能ICP等离子发生器 13.56 MHz 的等离子源非常紧凑，只需风冷，最高运行功率达300W。 ■ 标配３组气流质量控制计（MFC）控制的等离子气源线，和一条MFC控制的运载气体线，使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。 | |
GEMStar NanoCUBE： * 最大100 mm 立方体样品 沉积 * 单路前驱体输运支管， 2路前驱体瓶接口 * 主要用于3D多孔材料，以及厚样品的沉积 |
丰富配件：
多样品托盘： * 多样品夹具，样品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。 * 多基片夹具，最多同时容纳9片基片。
| 温控热托盘： * 可加热样品托盘，最高温度500℃，可实现热盘-热壁复合加热方式。 | ||
粉末沉积盘： | 臭氧发生器： | ||
真空进样器（Load Lock）
| 晶振测厚仪 | ||
前驱体瓶： | 前驱体加热套： | ||
粉末旋转沉积罐模块： 配合热壁加热方式，进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。
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手套箱接口： 可从侧面或背面完美接入手套箱，与从底部接入手套箱不同，不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面，反应过程中不对手套箱有加热效应，不影响手套箱内温度。 | |||
应用案例
应用领域
国内外用户
已发表文献
1、 Loïc Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b
2、 Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003
3、 HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019
4、 Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239
5、 Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on metal−Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957−10962. DOI: 10.1021/jp502669f
6、 Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.
7、 Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f
8、 Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 –6. DOI: 10.1002/anie.201303813
9、 Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 10121–10128. DOI: 10.1021/nn404326f
10、 Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388–391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023
11、 Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168
12、 Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.
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