Janis 4K闭循环制冷机应用-中子散射

       SHI-4T或SHI-950T系列4K制冷机可特殊设计应用于中子散射和衍射实验。这些系统带有铝（或者钒）中子区，将中子区壁厚减小，可最大程度地减少中子束到达实验样品前的吸收，从而增大中子束穿过率。

                                                            SHI-4T-800中子散射用制冷机               SHI-950T中子散射用制冷机

选项包括：

      ●        样品在真空或交换氦气中

      ●       特殊的安装法兰匹配Goniometers

      ●      长尾部可到达深中子阱

      ●      大样品区使得样品到铝壁间距离尽可能最大

      ●       冷指处有4K屏蔽层

      ●      紧凑型设计满足空间受限场合

      ●      可更换尾部

      ●      高温选配至800K

特殊定制的SHI-950T制冷机，用于中子散射，温度变化范围从4K到800K，请查看图纸：

注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途