Monowave 400 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具，使微波合成达到了前所未有的可靠性和性能。
Monowave 400提供300℃和30 bar（435psi）的最高单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。
Monowave 400最高的微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。最先进的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了最高精度的温度测量。
超乎想象
Monowave 400可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。
就利用Monowave 400的高效搅拌和标准内置温度测量来试一下您的第一个微波反应。纸上没有吹嘘，但是终究百闻不如一见。
您能感受到的独特优势:
快速和一致的加热
方便内部温度测量
最高的准确性和再现性
新方法开发的新空间
强力的搅拌有助益混合
用户友好的智能软件
内置8.4’’触摸屏控制器
满足多领域的应用的伙伴
制药研究：
方法开发和优化
构建单元合成
中间体修饰和骨架分子修饰
有机化学:
杂环合成
金属催化
键形成反应
缩合反应
加环反应
固相合成
生物医药:
衍生反应
多肽合成
材料化学:
纳米颗粒制备
分子筛合成
高分子材料合成
技术参数：
--实现最高的单模合成条件：300oC和30 bar（435psi）
--最高850W连续非脉冲微波
--最高的微波场密度
--超常的加热速度（3-9oC/秒）
--0~1200rpm连续可调的高效磁力搅拌
--自动调谐微波腔保证不同体积和极性的溶剂的高效加热
--仪器内置摄像头，通过显示屏直观观察反应管内部状况
--满足21CFR Part11 要求
--反应时间高达100小时
主要特点：
--- 全面反应控制记录
内置液压传感器使反应范围更广
内置红外温度传感器进行常规温度测量
先进的光纤温度传感器实现对内部反应温度的精确控制
自动式气动控制过压安全释放功能
30mL碳化硅管，快速加热非极性溶剂
850W，更高的功率，更快的加热速率
--- 8.4英寸触摸屏控制系统
全新智能控制软件，具有逻辑触摸屏导航
明亮的大控制图标使操作简单容易
不同操作者设定不同控制权限
内置AFAP快速加热模式或自己设定多步反应程序
重要样品可设定优先排队选项
---- 完整的数据管理
彩色反应曲线图同时显示所有相关参数
局部放大功能进行可获得更详细信息
方法库最多可存1000个方法
可通过USB进行数据导出
直接生成pdf格式的反应报告
注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
售后服务承诺
免费上门安装：是
保修期：1年
是否可延长保修期：是
保内维修承诺：免费上面维修
报修承诺：24小时相应
免费仪器保养：根据合同定义
免费培训：2人次技术中心培训
现场技术咨询：有
