高压均质技术破解纳米硅线分散难题

     【中国仪器仪表网 专题推荐】纳米硅线在一维纳米材料中潜力巨大，但其高长径比、易团聚的特性导致传统超声、机械搅拌等方法难以实现均匀分散，且易损伤硅线结构，影响后续性能。

　　ATS高压均质技术：通过极端高压使悬浮液通过精密均质腔，利用剪切、空化、撞击等多重作用，高效、温和地解离硅线团聚体，实现“纳米级精雕”般的分散效果。处理后，纳米硅线悬浊液稳定性显著提升，无分层、流动性好；电镜显示硅线长度保留完好、表面光滑无损伤。

　　该技术为制备高导电电极、高强度复合材料等提供了理想的材料基础。